真空管鍍膜的原理是電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

二次電子在加速飛向基片的過(guò)程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)

動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上.

現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜

體品種，如鍍鈦鍍鋯等等.

目前真空管膜層普遍采用鋁氮復(fù)合膜，整個(gè)膜層分內(nèi)、中外三層，各有其作用，內(nèi)層為反射層，主要作用是阻止管中熱水的熱量向外輻射；中層為吸收層，主要作用是吸收光能，并轉(zhuǎn)化成熱

能；外層為減反層，主要作用是減少陽(yáng)光的反射，增加陽(yáng)光的吸收率.